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Pompe a diffusione

Pompe a diffusione

  • lunedì 30 maggio 2022 lunedì 30 maggio 2022

Le pompe a diffusione sono dispositivi statici, ovvero privi di parti meccaniche in movimento, utilizzate come dispositivi primari di pompaggio in impianti nei quali il grado di vuoto necessario è nell’intervallo compreso tra 1e-4 e 1e-9 mbar. Si tratta dei primi dispositivi sviluppati in grado di generare un’azione di pompaggio nel cosiddetto regime molecolare di vuoto, ovvero quello nel quale il cammino libero di ciascuna molecola presente in una camera chiusa è maggiore delle dimensioni della camera stessa.


Le flange per alto vuoto

Le flange per alto vuoto

  • venerdì 11 febbraio 2022 venerdì 11 febbraio 2022

Nel mondo delle apparecchiature per alto vuoto, vi è spesso l’esigenza di effettuare degli accoppiamenti fissi tra componenti meccanici in grado di garantire le necessarie condizioni di tenuta tra un ambiente a bassa pressione e l’atmosfera. Gli standard più utilizzati al giorno d’oggi, per la progettazione di questi accoppiamenti, sono fondamentalmente tre: CF, KF ed ISO. Vediamone le caratteristiche generali ed i criteri di scelta.


Pompe Turbomolecolari

Pompe Turbomolecolari

  • martedì 12 ottobre 2021 martedì 12 ottobre 2021

Le pompe turbomolecolari sono una delle parti più iconiche di un impianto di deposizione in vuoto. Il loro aspetto evoca la struttura di un turbocompressore del tipo utilizzato nei motori degli aerei commerciali a reazione (turbofan).


Finitura superficiale interna delle Camere a Vuoto

Finitura superficiale interna delle Camere a Vuoto

  • martedì 31 agosto 2021 martedì 31 agosto 2021

Avrete notato che la finitura delle superfici interne delle camere a vuoto tende ad essere sempre più accurata via via che il vuoto base che si desidera ottenere è più spinto. Il motivo è che la quantità di acqua che è necessario gestire a causa del fenomeno di outgassing, aumenta con l’aumentare della rugosità superficiale della camera.


O-rings negli impianti in alto vuoto

O-rings negli impianti in alto vuoto

  • venerdì 18 giugno 2021 venerdì 18 giugno 2021

Gli o-rings sono elementi fondamentali degli impianti in alto vuoto. Si tratta di guarnizioni in materiale elastomerico, a sezione circolare, destinati ad essere inseriti in appositi alloggiamenti, detti cave, e ad essere compressi durante l’uso, fungendo da elemento di sigillatura. 


Gas Tecnici nei Processi di Deposizione in Vuoto

Gas Tecnici nei Processi di Deposizione in Vuoto

  • venerdì 23 aprile 2021 venerdì 23 aprile 2021

Molti processi industriali di deposizione in vuoto necessitano di un ambiente con una composizione dell’ambiente controllata: nelle camere viene quindi immessa con continuità una certa quantità di gas tecnici ad alta purezza, utilizzando delle valvole a flusso controllato denominate MFC (Mass Flow Controllers).


L’alluminio (e le sue leghe)

L’alluminio (e le sue leghe)

  • giovedì 11 febbraio 2021 giovedì 11 febbraio 2021

L’alluminio, anche se non molti lo sanno, è un metallo con proprietà straordinarie. Non esiste in natura allo stato metallico, ma sempre sottoforma di composti, il più noto dei quali è la Bauxite, nella quale è contenuto sottoforma di ossidi ed idrossidi.


Il vuoto assoluto

Il vuoto assoluto

  • venerdì 4 dicembre 2020 venerdì 4 dicembre 2020

Il vuoto assoluto è l'assenza di materia nello spazio. Quante particelle sono presenti nelle piccole camere UHV usate nei laboratori? Ce lo siamo chiesti in questo articolo!


Gli oli nelle pompe per impianti in vuoto

Gli oli nelle pompe per impianti in vuoto

  • venerdì 23 ottobre 2020 venerdì 23 ottobre 2020

Nei sistemi di pompaggio per impianti in vuoto, è frequente l’impiego di pompe a vani rotanti in bagno d’olio. In queste macchine, l’olio riveste delle funzioni importanti per il corretto funzionamento del macchinario.


Eliminare l’acqua in una camera a vuoto congelandola: è possibile?

Eliminare l’acqua in una camera a vuoto congelandola: è possibile?

  • giovedì 8 ottobre 2020 giovedì 8 ottobre 2020

La gestione del "water load" nelle lavorazioni a vuoto rappresenta sempre una problematica dovuta alla composizione molecolare dell'acqua. L'impiego di sistemi criogenici può aiutare l'eliminazione dell'acqua presente negli impianti di deposizione in vuoto.


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